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Photonix 2018 基調講演のご案内

「Photonix2018 内 第11回レーザー加工技術展」において、弊社代表取締役の岡田が
基調講演に登壇致します。

 

タイトル :ピコ秒ハイブリッドレーザの特徴とその応用
講演日時 :2018年12月7日(金)am9:30~am10:20
会  場 :幕張メッセ(〒261-8550 千葉県千葉市美浜区中瀬2-1)セミナー会場

 

事前登録制となります。
https://reed-speaker.jp/Conference/201812/seminar/top/?id=Laser&lang=jp

 

講演概要:
エレクトロニクス製品等に搭載される部品の小型化/高精細化要求が益々強くなる中、弊社はよりロバストで使い勝手を向上する超微細加工用レーザ技術として、世界に先駆けて半導体ゲインスイッチング方式を採用した「ピコ秒ハイブリッドレーザ技術」を開発し、産業用レーザ発振器としてシリーズ化致しました。
今回の講演では、この新しい技術の特徴をご紹介させて頂くと共に、産業応用事例を交えながら、この技術の可能性についてご紹介させて頂きます。

 

講演構成:

(1)ピコ秒パルスレーザの加工原理に関する説明

(2)ピコ秒ハイブリッドレーザの技術的特徴に関する説明

(3)微細加工事例の紹介

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